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工業(yè)園區(qū)惡臭污染來(lái)源分析與監(jiān)測(cè)
更新時(shí)間:2020-09-18 點(diǎn)擊次數(shù):1000

工業(yè)園區(qū)作為近幾年的新型行業(yè),正處于迅速發(fā)展的階段。承載著經(jīng)濟(jì)發(fā)展的重要任務(wù)的同時(shí),隨之而來(lái)的卻是越來(lái)越嚴(yán)重的污染問(wèn)題。據(jù)不*統(tǒng)計(jì),我國(guó)已竣工和新建的各類(lèi)工業(yè)園區(qū)已達(dá)9000多個(gè),2019年工業(yè)園區(qū)周邊惡臭投訴占所有環(huán)境投訴的23%,成為僅次于噪聲的第二大投訴源。工業(yè)區(qū)的惡臭污染排放不僅影響到了環(huán)境和周邊居民的心理健康,其污染因子中部分為有毒有害物質(zhì),還會(huì)對(duì)人體健康造成影響;且突發(fā)性污染排放時(shí)有發(fā)生,容易形成局部污染累積,使工業(yè)園區(qū)的管理變得困難。

通過(guò)企業(yè)實(shí)地調(diào)查了解,工業(yè)園區(qū)內(nèi)惡臭的污染形成主要有兩方面的原因,那就是源發(fā)形成和二次形成。

源發(fā)形成主要指原輔材料在運(yùn)輸、生產(chǎn)及存儲(chǔ)的過(guò)程中發(fā)生了擴(kuò)散、滴漏以及企業(yè)內(nèi)部污水處理設(shè)施表面揮發(fā)等原因造成的惡臭污染現(xiàn)象。而二次形成的原因主要是原輔材料擴(kuò)散至空氣中之后,和空氣中的物質(zhì)之間發(fā)生化學(xué)反應(yīng)生成了其他具有惡臭性質(zhì)的中間產(chǎn)物,微生物分解、高溫反應(yīng)、厭氧發(fā)酵、光照等都會(huì)造成二次形成。

工業(yè)園區(qū)內(nèi)惡臭污染成因復(fù)雜,具有多樣性,只有了解了惡臭的形成原因,才能從源頭或者形成過(guò)程方面抵消惡臭的污染。

惡臭在線(xiàn)監(jiān)測(cè)儀是天津智易時(shí)代科技發(fā)展有限公司運(yùn)用多年大氣環(huán)境監(jiān)測(cè)經(jīng)驗(yàn),依照《惡臭污染物排放標(biāo)準(zhǔn)(GB14554-1993)》,專(zhuān)門(mén)針對(duì)垃圾處理、污水站、固定污染源、廠界等容易產(chǎn)生異味的場(chǎng)所,自主研發(fā)生產(chǎn)的一款?lèi)撼魸舛仍诰€(xiàn)監(jiān)測(cè)儀;

該監(jiān)測(cè)設(shè)備是由采樣單元、樣氣過(guò)濾單元、傳感器檢測(cè)單元、數(shù)據(jù)處理單元、顯示單元和傳輸單元組成,可同時(shí)監(jiān)測(cè)包括惡臭在內(nèi)的八種氣體、以及顆粒物和氣象五參數(shù)等多項(xiàng)參數(shù)指標(biāo),具有工業(yè)級(jí)高精觸摸屏,可完美顯示當(dāng)前所監(jiān)測(cè)參數(shù)的濃度值;內(nèi)置大容量存儲(chǔ)芯片,可輕松存儲(chǔ)長(zhǎng)時(shí)間數(shù)據(jù),并通過(guò)接口數(shù)據(jù)導(dǎo)出;兼容TCP、IP、MODBUS等通信協(xié)議,適用范圍廣,即可無(wú)線(xiàn)數(shù)據(jù)上傳對(duì)接當(dāng)?shù)丨h(huán)保局,也可有線(xiàn)遠(yuǎn)傳組網(wǎng)。

 

產(chǎn)品參數(shù):

環(huán)境適應(yīng)性環(huán)境溫度(-20~40)℃

相對(duì)濕度 <90%RH

電壓(220±22)VAC

防護(hù)等級(jí)IP53

 

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